Mercoledì 3 maggio alle 19 Parsec ospiterà la presentazione del secondo numero di ECLISSE: Maschere e apparenze – rivista bimestrale di Luna APS.
Eclisse è accadimento straordinario e, immediatamente, significazione rassicurante che ricolloca il sovrabbondante entro categorie stabili, predeterminate. Questo processo di significazione accade in grazia di un potere asimmetrico, di linguaggi classificatori incontestabili, gesti e parole di pratiche pubbliche consolidate, anonime, inconsce. Con il termine Eclisse si vuole così indicare un determinato movimento di produzione di soggettività e di relazioni sociali: l’Eclisse è il perpetuarsi di dinamiche di adombramento, strategie di riduzione al silenzio, costruzione di spazi isolati, ricollocamento dei corpi. Questa come relazione produttrice di soggettività specifiche funziona nel suo stare come nascosta: nel suo accadere rimane come non vista. Ciò che mostra di sé è una maschera. Ma è solo attraverso questo suo camuffarsi che l’Eclisse può manifestarsi; è nei suoi travestimenti che risiede la sua forza. Pensare l’Eclisse, operare il suo disvelamento, è così cessare il perpetuarsi inconsapevole dell’Eclisse. Questo incessante processo di scavo e ricerca prende così la forma di una costante riflessione autocritica, reciproca e pluridirezionale, avente come fine quello di costruire uno spazio dinamico e fluido, entro il quale si possano sviluppare sensi molteplici rimasti oscurati e impossibilitati ad esprimersi entro le vigenti strategie di ordinamento dei corpi, dei linguaggi e delle soggettività.
Maschere e apparenze è una delle possibili conformazioni del pensiero sull’Eclisse. La messa in questione del concetto di maschera è così occasione per una riflessione sulle dinamiche di produzione delle soggettività. Messa in questione che disvela il carattere ambiguo e contraddittorio della maschera, in un gioco irrisolto tra concetti contrapposti. La maschera è insieme apparizione e nascondimento, realtà e finzione, libertà produttrice e dinamiche oppressive, via di fuga immaginifica e reclusione, luce ed ombra. Ogni mascherarsi è creazione di una cesura, di una distanza, di una coppia di termini contraddittori: quello che si mostra costruisce come suo rimando un qualcosa che rimane celato.
L’opera si sviluppa attraverso una messa in dialogo tra due spazi: un interno e un esterno. Il fruitore si troverà inserito entro un luogo abissale, abitato da figure caratterizzate da una personificazione omologante. Questa spazialità “interna” è volta a produrre uno sviamento rispetto agli abituali punti di riferimento, uno straniamento prodotto dall’incorporazione dell’ignoto entro figure uniformi, dove l’alterazione dei sensi e l’improvviso sentimento di instabilità verranno ricreati attraverso un’uniformità portata all’estremo. Questo interno “acquatico” sarà percorso da cesure, sospensioni, sfregi e interruzioni le quali renderanno accessibile, da punti di vista predeterminati, un esterno. L’esteriorità sarà marchiata da chiavi di interpretazione, parole come sentieri di comprensione, segni e simboli, esche indirizzate a condurre il fruitore verso il di fuori dell’opera. La spazialità così strutturata renderà però accessibile questa esteriorità solo parzialmente: ciò che doveva o poteva essere detto, ciò che doveva o poteva essere udito, si troverà altrove, non potrà mostrarsi, non sarà esaurito né nell’abissalità né nel dialogo sincopato tra i due spazi.
Ingresso up to you o con tessera Parsec (5€).